Кафедра 25 “Физика твердого тела ”

ФИЗИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ТЕХНОЛОГИИ

 (для группы С9-01, С9-02, Т9-25, Т9-25а)

 

      Целью курса является рассмотрение физических основ таких перспективных технологий, как пучковая ( электронная, ионная, нейтронная), плазменная и лазерная. Рассматриваются основные методы и некоторые установки перечисленных современных технологических процессов, а также ряд методов контроля изделий.

 

1 неделя.

    Введение. Предмет курса. Краткая характеристика развития новых технологических направлений. Области применения пучковой, плазменной и лазерной технологий. Достижения российской науки и техники в этой сфере.

2 неделя.

    Классификация процессов корпускулярно-фотонной технологии. Обзор основных процессов, происходящих при взаимодействии частиц и излучения с твердым телом. Основные понятия и терминология.

3 неделя.

    Взаимодействие электронных пучков с твердым телом. Рассеяние и глубина проникновения электронов в твердом теле. Энергетические потери. Вторичная электронная эмиссия. Электронно-лучевой нагрев вещества. Особенности нетермического воздействия электронного пучка на вещество.

4 неделя.

    Методы электронно-лучевой технологии. Источники электронов. Формирование электронных пучков. Термические методы обработки материалов электронными пучками. Нетермические методы обработки. Электронно-лучевые методы анализа.

5-6 недели.

    Взаимодействие ионных пучков с твердым телом. Рассеяние и торможение ионов в твердом теле. Энергетические потери и пробеги ионов. Структурные изменения ( нарушения) при ионной бомбардировке. Ионное распыление. Эмиссия электронов с поверхности при ионной бомбардировке.

7 неделя.

    Ионная технология. Источники ионов. Формирование ионных пучков, их сепарация и ускорение. Ионно-лучевое легирование материалов. Ионное распыление. Ионное методы анализа материалов.

8 неделя.

    Взаимодействие нейтронов с веществом. Краткая характеристика процесса взаимодействия нейтронов с твердым телом. Упругое и неупругое рассеяние.

9 неделя.

     Методы модификации свойств материалов под действием нейтронов. Источники нейтронов. Нейтронное легирование материалов. Биотехнологические аспекты воздействия нейтронов. Нейтронно-активационный анализ.

10 неделя.

     Взаимодействие плазменных потоков с веществом. Особенности взаимодействия плазменного потока с поверхностью твердого тела. Осаждение составляющих плазменного потока на поверхности.

11-12 недели.

     Плазменная технология. Источники плазменных потоков. Методы и устройства термической плазменной технологии. Ионно-плазменное травление поверхности. Плазмохимические процессы. Получение тонких пленок.

13-14 недели.

     Взаимодействие лазерного излучения технологической интенсивности с твердым телом. Рассеяние и поглощение лазерного излучения умеренной интенсивности (10¹⁰  Вт/cм² ) в веществе. Лазерное плазмообразоввание на поверхности твердого тела. Особенности взаимодействия лазерного излучения с тонкими пленками.

15-17 недели.

      Лазерная технология Технологические лазерные установки. Термические методы лазерной обработки материалов. Лазерно-плазменные методы воздействия на поверхность материалов. Литография. Лазерные методы анализа поверхности твердого тела.

 

ДОПОЛНИТЕЛЬНАЯ ЛИТЕРАТУРА

  * 1.  621.38/А16      Аброян И.А., Андронов А.Н., Титов А.И. Физические основы электронной и ионной технологии. М: Высшая школа, 1984.

  * 2.  621.38/Р98      Аброян И.А., Рябухин И.С., Шальнов А.В. Ускоренные пучки и их применение. М: Атомиздат, 1980.

  * 3.  530/Р96           Реди Дж. Действие мощного лазерного излучения. М: Мир, 1974.

  * 4.  621.9/И22       Ивановский Г.Ф., Петров В.И. Ионно-лазерная обработка материалов. М: Радио и связь, 1986.

**  5.  621.3/Ч68     Чистяков Ю.Д., Райнов Ю.П. Физико-химические основы технологии микроэлектроники. М: Металлургия, 1979.

  *  6.  621.37/Л17      Лазеры в технологии. Под ред. Стельмаха М.Ф. М: Энергия, 1975.

______________________________________________

        * Книга в читальном зале

      ** Книги в библиотеке нет